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Trifluoruro di azoto Gas NF3, gas speciali per l'attacco al plasma di wafer di silicio incolore

Trifluoruro di azoto Gas NF3, gas speciali per l'attacco al plasma di wafer di silicio incolore

    • Nitrogen Trifluoride NF3 Gas , Specialty Gases For Plasma Etching Of Silicon Wafers Colorless
    • Nitrogen Trifluoride NF3 Gas , Specialty Gases For Plasma Etching Of Silicon Wafers Colorless
  • Nitrogen Trifluoride NF3 Gas , Specialty Gases For Plasma Etching Of Silicon Wafers Colorless

    Dettagli:

    Luogo di origine: La Cina
    Marca: TYHJ
    Certificazione: ISO Certificate
    Numero di modello: NF3

    Termini di pagamento e spedizione:

    Quantità di ordine minimo: 200pcs
    Prezzo: negotiable
    Imballaggi particolari: 1. cilindro 44Ltr che riempie di liquido di 20Kg NF3. 2. cilindro 440L che riempie di liquido di 2
    Tempi di consegna: 15-30 giorni lavorativi dopo aver ricevuto il deposito
    Termini di pagamento: L/C, T/T, D/A, D/P, Western Union
    Capacità di alimentazione: 10000KG al mese
    Contatto
    Descrizione di prodotto dettagliata
    CAS No.: 7783-54-2 No. EINECS: 232-007-1
    ONU no.: UN2451 Purezza: 99,995%
    Classe del punto: 2,2 Aspetto: INCOLORE
    Evidenziare:

    advanced specialty gases

    ,

    purity plus specialty gases

    Trifluoruro di azoto Gas NF3, gas speciali per l'attacco al plasma di wafer di silicio incolore

    Il trifluoruro di azoto è il composto inorganico con la formula NF3. Questo composto di azoto e fluoro è un gas incolore, inodore e non infiammabile. Trova un uso crescente come agente di attacco nella microelettronica. Il trifluoruro di azoto è un gas serra estremamente potente.

    specificazioni

    N. CAS: 7783-54-2

    N. EINECS: 232-007-1

    Numero UN: UN2451

    Purezza: 99,995%

    Classe di punti: 2.2

    Aspetto: incolore

    Grado Standard: Grado di elettrone

    specificazione ≥99.995%
    CF4 ≤40 ppm
    N2 ≤5 ppm
    O2 + Ar ≤5 ppm
    CO ≤5 ppm
    CO2 /
    N2O /
    SF6 ≤2 ppm
    H2O ≤ 1 ppm
    HF ≤ 1 ppm

    Applicazione tipica

    incisione:

    Trifluoruro di azoto è utilizzato nell'incisione al plasma di wafer di silicio.

    NF3


    Imballaggio e spedizione

    Dimensione del pacchetto Cilindro 44Ltr Cilindro 440 litri Serbatoio ISO
    Peso netto di riempimento / Cyl 20kgs 200kgs /
    Quantità caricata in contenitore 20 ' 200 Cyls 20 Cyls
    Peso netto totale 4 tonnellate 4 tonnellate
    Peso della tara del cilindro 50kgs 240Kgs
    Valvola CGA / DISS640
      Trifluoruro di azoto (NF3) _MSDS.pdf

      Dettagli di contatto
      Chengdu Taiyu Industrial Gases Co., Ltd

      Persona di contatto: Millet

      Invia la tua richiesta direttamente a noi
      Chengdu Taiyu Industrial Gases Co., Ltd
      Stanza 1104, quarta costruzione, fase II, costruzione concentrare di Shudu, zona alta tecnologia, città di Chengdu, Cina
      Telefono:86-28-8846-5234
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